창고: HONGKONG
날짜 코드: 최신 Date Code
제조업체 표준 리드 타임: 6 주
| 내부 부품 번호 | EIS-IXFT30N50 | |
| 무연 여부 / RoHS 준수 여부 | 무연 / RoHS 준수 | |
| 수분 민감도 레벨(MSL) | 1(무제한) | |
| 생산 현황 (라이프 사이클) | 생산 중 | |
| 지위 | 새로운, 원래는 봉인 | |
| 규격서 | IXFH/IXFT(30,32)N50 | |
| 종류 | 이산 소자 반도체 제품 | |
| 제품군 | FET - 단일 | |
| 제조업체 | IXYS | |
| 계열 | HiPerFET™ | |
| 포장 | 튜브 | |
| 부품 현황 | 유효 | |
| FET 유형 | MOSFET N-Chan, 금속 산화물 | |
| FET 특징 | 표준 | |
| 드레인 - 소스 전압(Vdss) | 500V | |
| 전류 - 연속 드레인(Id) @ 25°C | 30A(Tc) | |
| Rds On(최대) @ Id, Vgs | 160m옴 @ 15A, 10V | |
| Id 기준 Vgs(th)(최대) | 4V @ 4mA | |
| 게이트 전하(Qg) @ Vgs | 300nC(10V) | |
| 입력 정전 용량(Ciss) @ Vds | 5700pF @ 25V | |
| 전력 - 최대 | 360W | |
| 작동 온도 | -55°C ~ 150°C(TJ) | |
| 실장 유형 | 표면실장(SMD, SMT) | |
| 패키지/케이스 | TO-268-3, D³Pak(2리드(lead)+탭), TO-268AA | |
| 공급 장치 패키지 | TO-268 | |
| 표준 포장 | 30 | |
| 무게 | 0.001 KG | |
| 신청 | 자세한 내용은 이메일 | |
| 대체 부품 (교체) | IXFT30N50 | |
| 관련 링크 | IXFT3, IXFT30N50 데이터 시트, IXYS 에이전트 유통 | |
![]() | C3225X8R1E335M250AA | 3.3µF 25V 세라믹 커패시터 X8R 1210(3225 미터법) 0.126" L x 0.098" W(3.20mm x 2.50mm) | C3225X8R1E335M250AA.pdf | |
![]() | AQ12EM0R8BAJME\V | 0.80pF 150V 세라믹 커패시터 M 0606(1616 미터법) 0.055" L x 0.055" W(1.40mm x 1.40mm) | AQ12EM0R8BAJME\V.pdf | |
![]() | 445A33L24M57600 | 24.576MHz ±30ppm 수정 12pF 40옴 -10°C ~ 60°C 표면실장(SMD, SMT) 2-SMD | 445A33L24M57600.pdf | |
![]() | R6046ANZC8 | MOSFET N-CH 10V DRIVE TO-3PF | R6046ANZC8.pdf | |
![]() | Y1691V0035VV9L | RES NTWRK 2 RES MULT OHM RADIAL | Y1691V0035VV9L.pdf | |
![]() | LK115D45 | LK115D45 ST SOP-8 | LK115D45.pdf | |
![]() | F0005 | F0005 FPE SMD or Through Hole | F0005.pdf | |
![]() | WIN2000PROF1 | WIN2000PROF1 Microsoft SMD or Through Hole | WIN2000PROF1.pdf | |
![]() | HIR333/H0/L267/C8/TR1 | HIR333/H0/L267/C8/TR1 EVERLIGHT DIP-2 | HIR333/H0/L267/C8/TR1.pdf | |
![]() | 71V424S12PH | 71V424S12PH IDTIntegratedDev SMD or Through Hole | 71V424S12PH.pdf | |
![]() | MAX460ICG | MAX460ICG MAXIM CAN12 | MAX460ICG.pdf | |
![]() | NAC-E220M35V6,3X5,5TR13 | NAC-E220M35V6,3X5,5TR13 Nippon SMD or Through Hole | NAC-E220M35V6,3X5,5TR13.pdf |